Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
В связи с техническими работами в центре обработки данных, часть прикреплённых файлов в настоящее время недоступна.
скрыть
Russian Microelectronics
журнал
Индексирование: Scopus (1 января 1970 г.-), Журналы РФ в Scopus (1 января 1970 г.-)
Период активности журнала: не указан
Издательство:
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
Местоположение издательства:
Russian Federation
ISSN:
1063-7397 (Print), 1608-3415
Статьи, опубликованные в журнале
Страницы: << предыдущая
1
2
3
следующая >>
2022
Analysis of hydrodynamics in the synthesis of crystals from water-salt solutions
Prostomolotov A.I.
,
Verezub N.A.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 662-666
DOI
2022
On the Mechanisms Regulating the Plasma Composition and Kinetics of Heterogeneous Processes in a CF4 + CHF3 + Ar Mixture
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 5, с. 302-310
DOI
2022
Plasma Parameters and Kinetics of Reactive-Ion Etching of Silicon in a C6F12O + Ar Mixture
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 4, с. 247-254
DOI
2022
Technology and thermomechanics in growing tubular silicon single crystal
Verezub N.A.
,
Kozhitov L.V.
,
Kondratenko T.T.
,
Prostomolotov A.I.
, Silaev I.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 677-685
DOI
2022
The study of nickel impurity segregation on LSNT perovskite open surfaces by ab initio molecular dynamics
Chistyakova A.A.
,
Bazhanov D.I.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 51, № 8, с. 1-5
DOI
2021
Application of the Spectral Ellipsometry Method to Study the Processes of Atomic Layer Deposition
Miakonkikh A.V.
, Smirnova E.A.,
Clemente I.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 4, с. 230-238
DOI
2021
Experimental Study of the Influence of the Porosity of Thin-Film Silicon-Based Anodes on Their Charge-Discharge Characteristics
Kulova T.L.
,
Mazaletsky L.A.
,
Mironenko A.A.
,
Rudy A.S.
,
Skundin A.M.
,
Tortseva Yu S.
,
Fedorov I.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 1, с. 44-52
DOI
2021
Mechanisms of Plasma Etching of Titanium, Indium, Tin, and Zinc Oxides in a Mixture of HBr + Ar
Efremov A.M., Smirnov S.A.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 6, с. 379-386
DOI
2021
Numerical Simulation of Cryogenic Etching: Model with Delayed Desorption
Rudenko M.K.,
Myakon’kikh A.V.
, Lukichev V.F.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 1, с. 54-62
DOI
2021
Specific Features of the Kinetics of the Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a CF4 + O2 Mixture in a Low Power Supply Mode
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
, Kwon K.H.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 303-310
DOI
2021
Study of Spin-Tunnel Junction Magnetization Using Coherent Rotation of the Free Layer Magnetization Model
Amelichev V.V.
,
Vasiliev D.V.
,
Kostyuka Yu V Kazakov D.V.
,
Kasatkin S.I.
,
Polyakov O.P.
,
Polyakov P.A.
,
Shevtsov V.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 6, с. 461-466
DOI
2021
Study of the Plasma Resistance of a High Resolution e-Beam Resist HSQ for Prototyping Nanoelectronic Devices
Miakonkikh A.V.
,
Shishlyannikov A.V.
,
Tatarintsev A.A.
,
Kuzmenko V.O.
,
Rudenko K.V.
,
Gornev E.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 297-302
DOI
2021
Thin-Film Solid State Lithium-Ion Batteries of the LiCoO2/Lipon/Si@O@Al System
Rudy A.S.
,
Mironenko A.A.
,
Naumov V.V.
,
Fedorov I.S.
,
Skundin A.M.
,
Tortseva Yu S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 50, № 5, с. 333-338
DOI
2020
Amorphization of Vanadium Oxides during the Reversible Insertion of Lithium
Skundin A.M.
,
Mironenko A.A.
,
Rudyi A.S.
,
Fedorov I.S.
,
Vasiliev S.V.
,
Mazaletsky L.A.
,
Tortseva Yu S.
,
Kuznetsov O.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 6, с. 416-422
DOI
2020
The Effect of Temperature on the Development of a Contrast HSQ Electronic Resist
Tatarintsev A.A., Shishlyannikov A.V.,
Rudenko K.V.
, Rogozhin A.E., Ieshkin A.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 3, с. 151-156
DOI
2020
The Effect of Temperature on the Development of a Contrast HSQ Electronic Resist
Tatarintsev A.A.
,
Shishlyannikov A.V.
,
Rudenko K.V.
,
Rogozhin A.E.
,
Ieshkin A.E.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 49, № 3, с. 151-156
DOI
2019
Layout Synthesis Design Flow for Special-Purpose Reconfigurable Systems-on-a-Chip
Gavrilov S.V.,
Zheleznikov D.A.
,
Zapletina M.A.
,
Khvatov V.M.
, Chochaev R.Z., Enns V.I.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 48, № 3, с. 176-186
2019
Methods and Algorithms for the Logical-Topological Design of Microelectronic Circuits at the Valve and Inter-Valve Levels for Promising Technologies with a Vertical Transistor Gate
Ivanova G.A.
,
Ryzhova D.I.
,
Gavrilov S.V.
,
Vasilyev N.O.
,
Stempkovskii A.L.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 48, № 3, с. 167-175
2019
Methods and Algorithms for the Logical-Topological Design of Microelectronic Circuits at the Valve and Inter-Valve Levels for Promising Technologies with a Vertical Transistor Gate
Ivanova G.A.
,
Ryzhova D.I.
,
Gavrilov S.V.
,
Vasilyev N.O.
,
Stempkovskii A.L.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 48, № 3, с. 167-175
DOI
2019
Synthesis of a Functional Control Circuit Based on the Spectral R-Code with the Partitioning of Outputs into Groups
Stempkovskii A.L.
,
Tel’pukhov D.V.
,
Zhukova T.D.
,
Demeneva A.I.
,
Nadolenko V.V.
,
Gurov S.I.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 48, № 4, с. 240-249
DOI
2018
A Thin-Film Platform for Chemical Gas Sensors
Roslyakov I.V.
,
Napolskii K.S.
,
Stolyarov V.S.
,
Karpov E.E.
,
Ivashev A.V.
,
Surtaev V.N.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 4, с. 226-233
DOI
2018
Dependence of the Resistance of the Negative e-Beam Resist HSQ Versus the Dose in the RIE and Wet Etching Processes
Miakonkikh A.V.
,
Orlikovskiy N.A.
,
Rogozhin A.E.
,
Tatarintsev A.A.
,
Rudenko K.V.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 3, с. 157-19
DOI
2018
Investigation of the Process of Open Plasma-Chemical Etching of HkMG Stack Nanoscale Transistor with a 32-nm Critical Dimension
Myakonkikh A.V.
, Kuvaev K.Yu,
Tatarintsev A.A.
,
Orlikovskii N.A.
,
Rudenko K.V.
, Guschin O.P., Gornev E.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 5, с. 325-333
DOI
2018
Magnetic force microscopy of iron and nickel nanowires fabricated by the matrix synthesis technique
Bizyaev D.A.,
Bukharaev A.A.
,
Khaibullin R.I.
,
Lyadova N.M.
,
Zagorskii D.L.
,
Bedin S.A.
,
Doludenko I.M.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 3, с. 187-196
DOI
2018
Modeling the Dynamics of the Integral Dielectric Permittivity of a Porous Low-K Organosilicate Film during the Dry Etching of a Photoresist in O2 Plasma
Rezvanov A.A.
,
Matyushkin I.V.
,
Gushchin O.P.
, Gornev E.S.
в журнале
Russian Microelectronics
, издательство
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
(Russian Federation)
, том 47, № 6, с. 415-426
DOI
Страницы: << предыдущая
1
2
3
следующая >>