|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
On the Mechanisms Regulating the Plasma Composition and Kinetics of Heterogeneous Processes in a CF4 + CHF3 + Ar Mixtureстатья
- Авторы: Efremov A.M., Betelin V.B., Kwon K.H.
- Журнал: Russian Microelectronics
- Том: 51
- Номер: 5
- Год издания: 2022
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 302
- Последняя страница: 310
- DOI: 10.1134/s1063739722050055
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович