–
Доклады на научных конференциях
-
- 2016 Ultra low-k etching by neutral beams produced from CF4/Ar and SF6/Ar ICP plasmas (Стендовый)
- Авторы: Alexey Zotovich, Otell Ziad el, Yvonne Sutton, Braithwaite N.St J, de Marneffe Jean-Francois, Mikhail Baklanov
- PESM 2016, Франция, 9-10 мая 2016
-
- 2015 Comparison between Vacuum Ultra-Violet emission of CF4/Ar and CF3I/Ar plasmas in CCP chamber for low-k etching (Стендовый)
- Авторы: Zotovich Alexey I., Otell Ziad el, de Marneffe Jean-Francois, Proshina Olga V., Lopaev Dmitry V., Rakhimova Tatyana V., Baklanov Mikhail R.
- PESM 2015, Leuven, Бельгия, 27-28 апреля 2015