|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmasстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 мая 2017 г.
- Авторы: Rezvanov Askar, Miakonkikh Andrey V., Vishnevskiy Alexey S., Rudenko Konstantin V., Baklanov Mikhail R.
- Журнал: Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics
- Том: 35
- Номер: 2
- Год издания: 2017
- Первая страница: 021204
- DOI: 10.1116/1.4975646
- Добавил в систему: Руденко Константин Васильевич