ИСТИНА

Руденко Константин Васильевич пользователь

доктор физико-математических наук

доцент/с.н.с. по специальности № 05.27.01

Физико-технологический институт РАН, заместитель директора

Соавторы: Мяконьких А.В., Татаринцев А.А., LUKICHEV V., Резванов А.А., Baklanov M.R., Bogoyavlenskaya E.A., Chesnokov J.M., Gornev E.S., Kalnov V.A., Kuzmenko V.O., Lelekov E.T., Myakon’Kikh A.V., Myakon’kich A.V. показать полностью..., ORLIKOVSKII A., Ovcharov V.V., Shahsenov I.S., Zhanaev E.D., Грушин Б.А., Лукичев В.Ф., Рогожин А.Е., Рогожин А.Е., Шишлянников А.В.

22 статьи, 1 доклад на конференции, 4 тезисов докладов, 1 членство в редколлегии сборника, 2 членства в диссертационных советах, 1 диссертация

Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 46, Scopus: 69
РИНЦ:

IstinaResearcherID (IRID): 22477346

Scopus Author ID: 6603679966

Деятельность

• Статьи в журналах

  • 
    • 2021 Study of the Plasma Resistance of a High Resolution e-Beam Resist HSQ for Prototyping Nanoelectronic Devices
    • Miakonkikh A.V., Shishlyannikov A.V., Tatarintsev A.A., Kuzmenko V.O., Rudenko K.V., Gornev E.S.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 50, № 5, с. 297-302 DOI
  • 
    • 2020 Effect of terminal methyl group concentration on critical properties and plasma resistance of organosilicate low-k dielectrics
    • Rezvanov Askar A., Miakonkikh Andrey V., Seregin Dmitry S., Vishnevskiy Alexey S., Vorotilov Konstantin A., Rudenko Konstantin V., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале Journal of Vacuum Science and Technology A, издательство AIP Publishing (United States), том 38, № 3, с. 033005 DOI
  • 
    • 2020 The Effect of Temperature on the Development of a Contrast HSQ Electronic Resist
    • Tatarintsev A.A., Shishlyannikov A.V., Rudenko K.V., Rogozhin A.E., Ieshkin A.E.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 49, № 3, с. 151-156 DOI
  • 
    • 2019 Analytical comparison of atomic layer deposition of oxide films inside trench and hole nanostructures
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Thin Solid Films, издательство Elsevier Sequoia (Switzerland), том 672, с. 83-89 DOI
  • 
    • 2018 Atomic Layer Deposition of Thin Films onto 3D Nanostructures: The Effect of Wall Tilt Angle and Aspect Ratio of Trenches
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Technical Physics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 63, № 10, с. 1525-1532 DOI
  • 
    • 2018 Micro-Raman Spectroscopy for Monitoring of Deposition Quality of High-k Stack Protective Layer onto Nanowire FET Chips for Highly Sensitive miRNA Detection
    • Malsagova Kristina, Pleshakova Tatyana, Kozlov Andrey, Shumov Ivan, Ilnitskii Mikhail, Miakonkikh Andrew, Popov Vladimir, Rudenko Konstantin, Glukhov Alexander, Kupriyanov Igor, Ivanova Nina, Rogozhin Alexander, Archakov Alexander, Ivanov Yuri
    • в журнале Biosensors, издательство MDPI (Basel, Switzerland), том 8, № 3, с. 72 DOI
  • 
    • 2018 Microstructure and electrical properties of thin HfO2 deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
    • Chesnokov Yu M., Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Rudenko K.V., Vasiliev A.L.
    • в журнале Journal of Materials Science, издательство Springer Nature (Switzerland), том 53, № 10, с. 7214-7223 DOI
  • 
    • 2017 Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmas
    • Rezvanov Askar, Miakonkikh Andrey V., Vishnevskiy Alexey S., Rudenko Konstantin V., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, том 35, № 2, с. 021204 DOI
  • 
    • 2017 Two-view tomography of low-temperature plasma
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 46, № 1, с. 30-38 DOI
  • 
    • 2016 Biosensor properties of SOI nanowire transistors with a PEALD Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf> dielectric protective layer
    • Popov V.P., Ilnitskii M.A., Zhanaev E.D., Myakon’kich A.V., Rudenko K.V., Glukhov A.V.
    • в журнале Semiconductors, издательство Springer (New York), том 50, № 5, с. 632-638 DOI
  • 
    • 2016 Perspective Method of Betavoltaic Converter Creation
    • Rudenko K.V., Miakonkih A.V., Rogojin A.E., Bogdanov S.V., Lelekov E.T., Sidorov V.G., Zelenkov P.V.
    • в журнале Journal of Nano- and Electronic Physics, том 8, № 2, с. 02022 DOI
  • 
    • 2016 Silicon ohmic lateral-contact MEMS switch for RF applications
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A., Lebedev K., Kalnov V., Rudenko K., Lukichev V.
    • в журнале Proc. SPIE, International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2016, том 10224, с. 1022419-1-1022419-7 DOI
  • 
    • 2014 Investigation of the BF3 plasma particle’s lateral distribution using two-view emission tomography
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 43, № 6, с. 407-412 DOI
  • 
    • 2014 Verification of the algorithm for emission tomography of plasma inhomogeneities in a plasma-chemical reactor using the Langmuir multiprobe
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 43, № 4, с. 252-257 DOI
  • 
    • 2014 X-ray reflectometry of the specific features of structural distortions of He+-implanted Si(001) surface layers
    • Lomov A.A., Myakonkikh A.V., Rudenko K.V., Chesnokov Yu M.
    • в журнале Crystallography Reports, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 59, № 3, с. 331-337 DOI
  • 
    • 2013 Formation and properties of ultrathin layers for fabrication of SOI MOS nanotransistor elements
    • Rudakov V.I., Bogoyavlenskaya E.A., Denisenko Y.I., Ovcharov V.V., Kurenya A.L., Rudenko K.V., Lukichev V.F., Orlikovsky A.A., Plis N.I.
    • в журнале Nanotechnologies in Russia, том 8, № 3-4, с. 255-261 DOI
  • 
    • 2013 Photovoltaic effect in a structure based on amorphous and nanoporous silicon formed by plasma immersion ion implantation
    • Myakon’Kikh A.V., Rogozhin A.E., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 42, № 4, с. 246-252 DOI
  • • 2013 The microstructure of Si surface layers after He+ Ar +plasma immersion ion implantation
    • Chesnokov J.M., Vasiliev A.L., Lukichev V.F., Rudenko K.V.
    • в журнале Journal of Physics: Conference Series, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 471, № 1 DOI
  • 
    • 2011 Optimization of the tomographic algorithm of the reconstruction of plasma irregularities in process reactors of microelectronics
    • Fadeev A.V., Rudenko K.V., Lukichev V.F., Orlikovskii A.A.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 40, № 2, с. 108-118 DOI

• Статьи в сборниках

  • • 2014 Carbon and fluorine co-implantation for boron diffusion suppression in extremely ultra shallow junctions
    • Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Rudakov V.I., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
    • в сборнике -, том 9440 DOI
  • • 2014 Monte Carlo simulation of boron doping profile of fin and trench structures by plasma immersion ion implantation
    • Shahsenov I.S., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V.
    • в сборнике -, том 9440 DOI
  • • 2012 Instrumented wafer as a Langmuir multiprobe tool for lateral plasma homogeneity measurements in processing plasma reactors
    • Miakonkikh A., Lisovsky S., Rudenko M., Rudenko K.
    • в сборнике -, том 8700 DOI

• Доклады на конференциях

  • • 2015 Исследование состава тонких диэлектрических слоев с помощью ионно-пучковых технологий (Стендовый)
    • Авторы: Рогожин А.Е., Руденко К.В., Мяконьких А.В., Черныш В.С., Шемухин А.А., Балакшин Ю.В., Рудаков В.И.
    • XLV Международная Тулиновская конференция по физике взаимодействия заряженных частиц с кристаллами, Москва, Россия, 26-30 мая 2015

• Тезисы докладов

  • • 2017 Deep Silicon etching in cryo process for TSV 3D integration
    • Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Tatarintsev A.A., Gushin O.P., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
    • в сборнике Materials for advanced metallisation International workshop, Dresden, Germany, March 26-29, 2017, тезисы
  • • 2016 Etching/oxidation technology for sub-30nm Silicon nanowire array manifacturing
    • Miakonkikh A., Tatarintsev A.А., Rogozhin A., Rudenko K., Orlikovsky A.
    • в сборнике Book of abstract PESM 2016, May 9-10, Grenoble, France, тезисы, с. P08
  • • 2016 Silicon ohmic lateral-contact MEMS switch for RF applications
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A., Lebedev K., Kalnov V., Rudenko K., Lukichev V.
    • в сборнике International Conference “Micro- and nanoelectronics – 2016”, тезисы, с. 156
  • • 2016 Technology for fabrication of sub-20 nm silicon planar nanowires array
    • Miakonkikh A., Tatarintsev A., Rogozhin A., Rudenko K.
    • в сборнике International Conference “Micro- and nanoelectronics – 2016”, тезисы, с. 136

• Участие в редколлегии сборников

  • • 2021 Proceedings of International Confernce "Micro- and Nanoelectronics - 2021" (ICMNE-2021): Book of abstracts
    • члены редколлегии: Лукичев В.Ф., Руденко К.В.
    • издательство ООО "МАКС Пресс" (Москва)
    • сборник тезисов

• Членство в диссертационных советах

  • • 8 июня 2017 - 30 июня 2022 МГУ.013.7(01.12), МГУ имени М.В. Ломоносова, Физический факультет
    • 01.04.04 - Физическая электроника (физ.-мат. науки)
    • Действующие члены совета: Федянин А.А., Вятчанин С.П., Кузелев М.В., Рахимов А.Т., Черныш В.С., Карташов И.Н., Биленко И.А., Бычков В.Л., Знаменская И.А., Кленов Н.В., Корнев В.К., Кралькина Е.А., Крупенин В.А., Куприянов М.Ю., Лебедев Ю.А., Лигачев А.Е., Манкелевич Ю.А., Митрофанов В.П., Попов А.М., Савельев-Трофимов А.Б., Снигирев О.В., Соловьев И.И., Сысоев Н.Н., Тихонова О.В., Халили Ф.Я.
  • • 23 июня 2015 - 31 августа 2017 Д 501.001.66, МГУ имени М.В. Ломоносова, Физический факультет
    • 01.04.04 - Физическая электроника (физ.-мат. науки)

• Диссертация

  • • 2007 Диагностика плазменных технологических процессов микро- и наноэлектроники
    • Докторская диссертация по специальности 05.27.01 - Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах (физ.-мат. науки)
    • Автор: Руденко Константин Васильевич, д.ф.-м.н., доц.
    • Защищена в совете Д 002.204.01 при Физико-технологический институт РАН