ИСТИНА

Амиров Ильдар Искандерович

доктор физико-математических наук

Ярославский Филиал федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технологического института Российской академии наук (ЯФ ФТИАН РАН), заместитель директора по научной работе

Соавторы: Zimin S., Алов Н.В., Шумилов А.С., Изюмов Д.С., Gremenok V.F., Juskenas R., Mazaletskii L.A., Rappl P.H., Skapas M., Uvarov I.V., Zimin S., Zogg H., Бабушкин А.Д.

16 статей, 2 доклада на конференциях, 1 НИР

Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 45, Scopus: 10

IstinaResearcherID (IRID): 7936142

Деятельность стиль:  обычный | ГОСТ | plain | abbrv | acm | alpha | amsalpha | amsplain | apalike | ieeetr | siam

• Статьи в журналах

  • • 2020 Эволюция профиля Si наноструктур при распылении в аргоновой плазме ВЧИ разряда
    • Шумилов А.С., Амиров И.И.
    • в журнале Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, № 9, с. 1-9 DOI
  • 
    • 2019 Plasma-assisted surface nanostructuring of epitaxial Pb1−x Sn x Te (0 ≤ x ≤ 1) films
    • Zimin S.P., Gorlachev E.S., Amirov I.I., Naumov V.V., Juskenas R., Skapas M., Abramof E., Rappl P.H.O
    • в журнале Semiconductor Science and Technology, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 34, № 9, с. 095001 DOI
  • 
    • 2018 Effect of Low-Energy Ion-Plasma Treatment on Residual Stresses in Thin Chromium Films
    • Babushkin A.S., Uvarov I.V., Amirov I.I.
    • в журнале Technical Physics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 63, № 12, с. 1800-1807
  • 
    • 2018 Self-formation of a nanonet of fluorinated carbon nanowires on the Si surface by combined etching in fluorine-containing plasma
    • Amirov I.I., Gorlachev E.S., Mazaletskiy L.A., Izyumov M.O., Alov N.V.
    • в журнале Journal of Physics D - Applied Physics, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 51, № 11, с. 1-7 DOI
  • 
    • 2018 The Formation of Hollow Lead Structures on the Surface of PbSe Films Treated in Argon Plasma
    • Zimin S.P., Amirov I.I., Naumov V.V., Guseva K.E.
    • в журнале Technical Physics Letters, издательство Pleiades Publishing, Ltd (Road Town, United Kingdom), том 44, № 6, с. 518-521
  • 
    • 2017 Surface nanostructuring of CuIn1-x Ga x Se2 films using argon plasma treatment
    • Zimin S.P., Gorlachev E.S., Mokrov D.A., Amirov I.I., Naumov V.V., Gremenok V.F., Juskenas R., Skapas M., Kim W.Y., Bente K., Chung Y.D.
    • в журнале Semiconductor Science and Technology, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 32, № 7, с. 075014 DOI
  • • 2017 Моделирование профиля травления высокоаспектных канавок в Si в хлорной плазме
    • Шумилов А.С., Амиров И.И., Лукичев В.Ф.
    • в журнале Микроэлектроника, издательство Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука (Москва), том 46, № 5, с. 323-331 DOI
  • 
    • 2016 Changes in the conductivity of lead-selenide thin films after plasma etching
    • Zimin S.P., Amirov I.I., Naumov V.V.
    • в журнале Semiconductors, издательство Izdatel'stva Nauka (Russian Federation), том 50, № 8, с. 1125-1129
  • • 2016 Низкоэнергетическое, селективное травление пленок металлов в плотной аргоновой плазме с добавками кислорода
    • АМИРОВ И.И., ИЗЮМОВ М.О., НАУМОВ В.В.
    • в журнале Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, № 8, с. 82-86 DOI
  • 
    • 2015 Application of abnormally high sputtering rate of PbTe(Te) single crystals during inductively coupled argon plasma treatment for fabrication of nanostructures
    • Zimin S.P., Gorlachev E.S., Amirov I.I., Naumov V.V., Bagiyeva G.Z.
    • в журнале Semiconductor Science and Technology, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 30, № 3, с. 035017
  • 
    • 2015 Plasma chemical etching of high-aspect-ratio silicon micro- and nanostructures
    • Amirov I.I.
    • в журнале Russian Journal of General Chemistry, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 85, № 5, с. 1252-1259 DOI
  • • 2015 Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении
    • Шумилов А.С., Амиров И.И.
    • в журнале Журнал технической физики, издательство Наука. С.-Петерб. отд-ние (СПб.), № 7, с. 112
  • 
    • 2009 Micromasking effect and nanostructure self-formation on the surface of lead chalcogenide epitaxial films on Si substrates during argon plasma treatment
    • Zimin S.P., Gorlachev E.S., Amirov I.I., Zogg H.
    • в журнале Journal of Physics D - Applied Physics, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 42, № 16, с. 165205
  • • 2008 Формирование микроструктур на поверхности кремния во фторсодержащей плазме в циклическом процессе травление/пассивация
    • Амиров И.И., Алов Н.В.
    • в журнале Химия высоких энергий, издательство ИКЦ «Академкнига» (Москва), том 42, № 2, с. 164-168
  • • 2006 Осаждение полимерной пленки в плазме высокочастотного индукционного разряда перфторциклобутана в его смеси с гексафторидом серы
    • Амиров И.И., Алов Н.В.
    • в журнале Химия высоких энергий, издательство ИКЦ «Академкнига» (Москва), том 40, № 4, с. 1-6

• Статьи в сборниках

  • • 2017 Inductively Coupled Plasma Sputtering: Structure of IV-VI Semiconductors
    • Zimin S., Gorlachev E., Amirov I.
    • в сборнике Encyclopedia of Plasma Technology, издательство CRC PRESS-TAYLOR & FRANCIS GROUP (6000 BROKEN SOUND PARKWAY NW,STE 300, BOCA RATON, USA, FL, 33487-2742), том 1, с. 679-691

• Доклады на конференциях

  • • 2010 Влияние ионной бомбардировки на состав и свойства слоя, образующегося на поверхности кремния во фторуглеродной плазме (Стендовый)
    • Авторы: Амиров И.И., Куприянов А.Н., Шумилов А.С., Алов Н.В.
    • VII Международная конференция по актуальным проблемам физики, материаловедения, технологии и диагностики кремния, нанометровых структур и приборов на его основе КРЕМНИЙ-2010, Нижний Новгород, 2010
  • • 2010 Влияние ионной бомбардировки на состав пленки, образующейся на поверхности Si во фторуглеродной плазме (Стендовый)
    • Авторы: Алов Н.В., Амиров И.И.
    • XL Международная конференция по физике взаимодействия заряженных частиц с кристаллами. Москва. 25 -27 мая 2010 г. С.60., Москва, Россия, 2010

• НИРы

  • • 3 декабря 2018 - 3 января 2021 Исследование и разработка многостадийных, циклических процессов плазмохимического травления материалов с атомарным разрешением для формирования многоуровневых систем металлизации суб-10 нм технологии изготовления интегральных схем
    • Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А. Валиева Российской академии наук
    • Руководитель: Амиров И.И. Ответственные исполнители: Воронина Е.Н., Зотович А.И., Лопаев Д.В. Участники НИР: Волошин Д.Г., Волынец А.В., Горлачев Е.С., Изюмов М.О., Куприянов А.Н., Наумов В.В., Чукаловский А.А.