ИСТИНА

Krivtsun V.M.

Соавторы: Лопаев Д.В., Yakushev O.F., Зырянов С.М., Рахимова Т.В., Васильева А.Н., Долгов А.Д., Ковалев А.С., Bijkerk F., Koshelev K.N., Lee C.J., Malykhin E.M., Абрикосов А.А., Рахимов А.Т. показать полностью..., Astakhov D.I., van Kaampen M., Брагинский О.В., Зотович А.И., Glushkov D., Goedheer W.J., IVANOV V.V., Koshelev K., Kuritsyn Y.A., Liger V.V., Reshetnyak V., Большов М.А., Волынец А.В., Ковалев A.C.

11 статей, 2 патента

Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 47, Scopus: 43

IstinaResearcherID (IRID): 468384

Деятельность стиль:  обычный | ГОСТ | plain | abbrv | acm | alpha | amsalpha | amsplain | apalike | ieeetr | siam

• Статьи в журналах

  • 
    • 2018 Plasma-assisted oxide removal from ruthenium-coated EUV optics
    • Dolgov A., Lee C.J., Bijkerk F., Abrikosov A., Krivtsun V.M., Lopaev D., Yakushev O., van Kampen M.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство American Institute of Physics (United States), том 123, с. 153301 DOI
  • 
    • 2017 Dynamics of the Ion Energy Spectrum in EUV-Induced Hydrogen Plasma
    • Abrikosov A.A., Yakushev O.F., Lopaev D.V., Krivtsun V.M.
    • в журнале Plasma Physics Reports, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 43, № 6, с. 614-620 DOI
  • 
    • 2017 Numerical simulations based on probe measurements in EUV-induced hydrogen plasma
    • Abrikosov A., Reshetnyak V., Astakhov D., Dolgov A., Yakushev O., Lopaev D., Krivtsun V.
    • в журнале Plasma Sources Science and Technology, издательство Institute of Physics Publishing (United Kingdom), том 26, с. 045011 DOI
  • 
    • 2015 Plasma probe characteristics in low density hydrogen pulsed plasmas
    • Astakhov D.I., Goedheer W.J., Lee C.J., Ivanov V.V., Krivtsun V.M., Zotovich A.I., Zyryanov S.M., Lopaev D.V., Bijkerk F.
    • в журнале Plasma Sources Science and Technology, издательство Institute of Physics Publishing (United Kingdom), том 24, № 5, с. 055018 DOI
  • 
    • 2014 Comparison of H 2 and He carbon cleaning mechanisms in extreme ultraviolet induced and surface wave discharge plasmas
    • Dolgov A., Lopaev D., Rachimova T., Kovalev A., Vasil’eva A., Lee C.J., Krivtsun V.M., Yakushev O., Bijkerk F.
    • в журнале Journal of Physics D - Applied Physics, издательство Institute of Physics Publishing (United Kingdom), том 47, № 6, с. 065205 DOI
  • • 2013 Space--time evolution of low-pressure H2 plasma induced by runaway photoelectrons produced by KrF laser pulse
    • Zotovich A., Volynets A., Lopaev D., Zyryanov S., Koshelev K., Krivtsun V., Astakhov D.
    • в журнале Bulletin of the American Physical Society, 66th Annual Gaseous Electronics Conference, том 58, № 8
  • 
    • 2012 Removal of amorphous C and Sn on Mo:Si multilayer mirror surface in Hydrogen plasma and afterglow
    • Braginsky O.V., Kovalev A.S., Lopaev D.V., Malykhin E.M., Rakhimova T.V., Rakhimov A.T., Vasilieva A.N., Zyryanov S.M., Koshelev K.N., Krivtsun V.M., van Kaampen Maarten, Glushkov D.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство American Institute of Physics (United States), том 111, № 9, с. 093304-093304 DOI
  • 
    • 2011 Loss of Hydrogen Atoms in H-2 Plasma on the Surfaces of Materials Used in EUV Lithography
    • Zyryanov S.M., Kovalev A.S., Lopaev D.V., Malykhin E.M., Rakhimov A.T., Rakhimova T.V., Koshelev K.N., Krivtsun V.M.
    • в журнале Plasma Physics Reports, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 37, № 10, с. 881-889 DOI
  • 
    • 2005 Determination of the parameters of condensed media by the dual-wavelength differential absorption method
    • Liger V.V., Bolshov M.A., Kuritsyn Y.A., Krivtsun V.M., Zybin A.V., Niemax K.
    • в журнале Optics and Spectroscopy (English translation of Optika i Spektroskopiya), издательство Optical Society of America (United States), том 99, № 5, с. 816-827 DOI

• Статьи в сборниках

  • • 2013 Comparison of H2 and He carbon cleaning mechanisms in extreme ultraviolet induced and surface wave discharge plasmas
    • Dolgov A., Lopaev D., Rachimova T., Kovalev A., Vasilyeva A., Lee C.J., Krivtsun V., Yakushev O., Bijkerk F.
    • в сборнике arXiv preprint arXiv:1310.4057
  • • 2010 In-Line Plasma Cleaning of EUV Multilayer Mirrors
    • Malykhin E.M., Braginsky O.V., Kovalev A.S., Lopaev D.V., Rakhimov A.T., Rakhimova T.V., Vasilieva A.N., Zyryanov S.M., Koshelev K.N., Krivtsun V.M., Yakushev O.F.
    • в сборнике Bulletin of the American Physical Society, 63rd Gaseous Electronics Conference & 7th International Conference on Reactive Plasmas, October4-8 2010, Paris, France, серия 7, место издания Paris, France, том 55

• Патенты

  • • 2011 Lithographic apparatus and device manufacturing method
    • Авторы: Ivanov V.V., Banine V.Y., Bleeker A.J., Koshelev K.N., Antsiferov P.S., Krivtsun V.M., Lopaev D.V.
    • #United States Patent 7872244, 18 января
  • • 2009 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    • Авторы: IVANOV V.V., BANINE V., BLEEKER A., KOSHELEV K.N., ANTSIFEROV P.S., KRIVTSUN V.M., LOPAEV D.V.
    • #WO2009018933, 13 февраля