Improved Plasma Resistance for Porous Low-k Dielectrics by Pore Stuffing Approachстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 26 августа 2016 г.