|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
CD-Metrology of EUV masks in the presence of charging: measurement and simulationстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 27 мая 2015 г.
- Авторы: Babin S., Borisov S., Hakii H., Nishiyama Y., Yonekura I.
- Сборник: Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
- Год издания: 2012
- Первая страница: 844108
- DOI: 10.1117/12.999462
- Добавил в систему: Борисов Сергей Сергеевич