Механизм травления и повреждения нанопористых диэлектрических материалов при пониженных температурахНИР

The mechanism of etching and damage to nanoporous dielectric materials at low temperatures

Источник финансирования НИР

грант РНФ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 20 мая 2019 г.-31 декабря 2019 г. Механизм травления и повреждения нанопористых диэлектрических материалов при пониженных температурах
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".