Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Chemical Vapor Deposition
журнал
Индексирование: Scopus (1 января 1970 г.-), JCR (1 января 1970 г.-)
Период активности журнала: не указан
Другие названия журнала:
Chem. Vap. Deposition
Издательство:
John Wiley & Sons Ltd.
Местоположение издательства:
United Kingdom
ISSN:
1521-3862, 0948-1907 (Print)
Редколлегия
Кауль Андрей Рафаилович
,
с 1 января 2004
Статьи, опубликованные в журнале
2014
Full CVD Reel-To-Reel Process to Obtain Perfectly Oriented Silicon Films on Metal Tapes with Oxide Buffer Layers,
Moyzykh M.
,
Samoilenkov S.
,
Amelichev V.
,
Vasiliev A.
,
Pozdnyakov M.
,
Mankevich A.
,
Tschepikov V.
,
Kaul A.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 20, № 10-11-12, с. 356-363
DOI
2013
Growth of a Carbon Nanotube Forest on Silicon using Remote Plasma CVD
Ismagilov Rinat R.
,
Shvets Petr V.
,
Zolotukhin Aleksey A.
,
Obraztsov Alexander N.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 19, № 10-11-12, с. 332-337
DOI
2012
Boron-doped Homoepitaxial Diamond CVD from Microwave Plasma-Activated Ethanol/Trimethyl Borate/Hydrogen Mixtures
Belousov M.E.
,
Mankelevich Yu A.
,
Minakov P.V.
,
Rakhimov A.T.
,
Suetin N.V.
, Khmelnitskiy R.A., Tal A.A., Khomich A.V.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 18, № 10-12, с. 302-308
DOI
2009
Novel low melting point barium and strontium precursors for the MOCVD growth of barium-strontium-titanate films
Kuzmina N.
,
Malkerova I.
,
Alikhanyan A.
,
Tsymbarenko D.
,
Lysenko K.
,
Kreinin O.
,
Shuster G.
,
Lakin E.
,
Zolotoyabko E.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 15, с. 342-349
2004
A brief overview of CVD research at IOPW, Technical University of Braunschweig
Arndt J., Decker W., Keune H.,
Klippe L.
, Krause U.,
Metz C.
, Nemetz W.,
Nubian K.
,
Nürnberg A.
, Pulver M.,
Samoilenkov S.V.
, Schmidt J.,
Stadel O.
,
Stiens D.
, Stolle R.,
Gorbenko O.Y.
,
Kaul A.R.
,
Korsakov I.E.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 10, № 2, с. 61-66
DOI
2004
MOCVD of KNbO3 ferroelectric films and their characterization
Romanov M.V.,
Korsakov I.E.
,
Kaul A.R.
,
Stefanovich S.Y.
,
Bolshakov I.A.
,
Wahl G.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 10, № 6, с. 318-324
DOI
2002
Low-temperature MOCVD of conducting, micrometer-thick, silver films
Samoilenkov S.
,
Stefan M.
,
Wahl G.
,
Paramonov S.
,
Kuzmina N.
,
Kaul A.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 8, № 2, с. 74-78
DOI
2000
Volatile surfactant-assisted MOCVD: Application to LaAlO3 thin-film growth
Molodyk A.A.
,
Korsakov I.E.
,
Novojilov M.A.
,
Graboy I.E.
,
Kaul A.R.
,
Wahl G.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 6, № 3, с. 133-138
DOI
1998
Deposition of Cubic Boron Nitride in Hydrogen Plasma
Igor Konyashin
,
Joachim Bill
,
Fritz Aldinger
,
Valery Khvostov
,
Alexey Bregadze
,
Malvina Guseva
, Vladimir Babaev
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 4, № 4, с. 125-129
1997
CVD of AlN films and some of their properties
Spitsyn B.V.
,
Stoyan V.P.
,
Kulakova I.I.
,
Kochetkova E.I.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 5, № 4, с. 318-322
1997
Epitaxial BaTiO3 films grown by aerosol MOCVD
Gorbenko O.Yu
,
Kaul A.R.
,
Wahl G.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 3, № 4, с. 193-196
1994
Adducts of Barium Dipivaloylmethanate with o-Phenantroline: Synthesis, Molecular Structure and Thermal Behaviour
Kusmina N.
,
Ivanov V.
,
Martynenko L.
,
Alikhanyan A.
,
Malkerova I.
,
Troyanov S.
в журнале
Chemical Vapor Deposition
, издательство
John Wiley & Sons Ltd.
(United Kingdom)
, том 3, № 1, с. 32-46