Materials Research Society Symposium Proceedingsсборник
Статьи, опубликованные в сборнике
-
-
2009
Interaction of О and Н Atoms with Low-K SiOCH Films Pretreated in He Plasma
-
Braginsky O.V.,
Kovalev A.S.,
Lopaev D.V.,
Mankelevich Y.A.,
Malykhin E.M.,
Proshina O.V.,
Rakhimova T.V.,
Rakhimov A.T.,
Vasilieva A.N.,
Voloshin D.G.,
Zyryanov S.M.,
Baklanov M.R.
-
в сборнике Materials Research Society Symposium Proceedings, место издания Materials Research Society, том 1156
DOI