Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Frantskevich N.V.
Frantskevich N.V.
IstinaResearcherID (IRID): 86406314
–

Статьи в журналах

    • 2009 SEM AND SIMS STUDY OF THE BURIED SIXNY LAYER FORMED IN SILICON
    • Saad A.M., Frantskevich A.V., Frantskevich N.V., Fedotov A.K., Mazanik A.V., Rau E.I., Wegierek P., Kołtunowicz T., Zukowski P.
    • в журнале Vacuum, издательство Elsevier Ltd (London), том 83
    • 2008 SEM INVESTIGATION OF SURFACE DEFECTS ARISING AT THE FORMATION OF A BURIED NITROGEN-CONTAINING LAYER IN SILICON
    • Frantskevich A.V., Frantskevich N.V., Saad A.M., Fedotov A.K., Mazanik A.V., Rau E.I.
    • в журнале Solid State Phenomena, с. 195
    • 2005 FORMATION OF BURIED INSULATING ISLAND-LIKE SIO2 LAYER IN SILICON
    • Frantskevich A.V., Frantskevich N.V., Fedotov A.K., Mazanik A.V., Rau E.I., Kulinkayskas V.S.
    • в журнале Materials Science and Engineering B

Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь