ИСТИНА

Terashima K.

Соавторы: Кулинич С.А., Yamamoto H., Yoshida T., Shibata J., Yamaki T., Ikuhara Y., Asahara A., Bysakh S., Furuya K., Ito T., Katahira K., Mitsuishi K., Miyazoe H. показать полностью..., Shimada Y., Song M., Yamamoto T., Штанский Д.В.

10 статей

Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 58, Scopus: 60

IstinaResearcherID (IRID): 3490983

Деятельность стиль:  обычный | ГОСТ | plain | abbrv | acm | alpha | amsalpha | amsplain | apalike | ieeetr | siam

• Статьи в журналах

  • 
    • 2006 Effect of the substrate temperature and deposition rate on the initial growth of thin lithium niobate-tantalate films from a thermal plasma
    • Kulinich S.A., Yamaki T., Miyazoe H., Yamamoto H., Terashima K.
    • в журнале Physics of the Solid State, издательство Russian Academy of Sciences (Russian Federation), том 48, № 5, с. 904-911 DOI
  • 
    • 2003 Carbon system film syntheses on a chip by multiple microplasma CVD
    • Ito T., Katahira K., Asahara A., Kulinich S.A., Terashima K.
    • в журнале Science and Technology of Advanced Materials, издательство National Institute for Materials Science and Elsevier BV Japan (Japan), том 4, № 1, с. 559-564 DOI
  • 
    • 2003 Epitaxial LiNb0.5Ta0.5O3 films on LiTaO3 and LiNbO3 substrates grown by thermal plasma
    • Kulinich S.A., Yamaki T., Bysakh S., Mitsuishi K., Yamamoto H., Song M., Terashima K., Furuya K.
    • в журнале Journal of Crystal Growth, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 247, № 3-4, с. 408-418 DOI
  • 
    • 2003 Initial deposition stage of LiNb0.5Ta0.5O3 films in thermal plasma CVD
    • Yamaki T., Yamamoto H., Kulinich S.A., Terashima K.
    • в журнале Surface and Coatings Technology, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 171, № 1-3, с. 11-14 DOI
  • 
    • 2003 Thermal plasma fabricated lithium niobate-tantalate films on sapphire substrates
    • Kulinich S.A., Yoshida T., Yamamoto H., Terashima K.
    • в журнале Journal of Vacuum Science and Technology A, издательство AIP Publishing (United States), том 21, № 4, с. 994-1003 DOI
  • 
    • 2002 Lithium niobate-tantalate thin films on Si by thermal plasma spray CVD
    • Kulinich S.A., Yamamoto H., Shibata J., Terashima K., Yoshida T.
    • в журнале Thin Solid Films, издательство Elsevier Sequoia (Switzerland), том 407, № 1-2, с. 60-66 DOI
  • 
    • 2002 Transmission electron microscopic studies of LiNb0.5Ta0.5O3 films deposited on sapphire substrates by thermal plasma spray CVD
    • Shibata J., Yamamoto H., Kulinich S.A., Yamamoto T., Terashima K., Yoshida T., Ikuhara Y.
    • в журнале Materials Transactions, издательство Japan Institute of Metals (Japan), том 43, № 7, с. 1517-1524 DOI
  • 
    • 2001 Crystallography and structural evolution of LiNbO3 and LiNb1-xTaxO3 films on sapphire prepared by high-rate thermal plasma spray CVD
    • Shtansky D.V., Kulinich S.A., Terashima K., Yoshida T., Ikuhara Y.
    • в журнале Journal of Materials Research, издательство Materials Research Society (United States), том 16, № 8, с. 2271-2279 DOI
  • 
    • 2001 Highly c-axis oriented LiNb0.5Ta0.5O3 thin films on Si substrates fabricated by thermal plasma spray CVD
    • Kulinich S.A., Shibata J., Yamamoto H., Shimada Y., Terashima K., Yoshida T.
    • в журнале Applied Surface Science, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 182, № 1-2, с. 150-158 DOI
  • 
    • 2001 LiNb1-xTaxO3 films prepared by thermal plasma spray CVD
    • Yamamoto H., Kulinich S.A., Terashima K.
    • в журнале Thin Solid Films, издательство Elsevier Sequoia (Switzerland), том 390, № 1-2, с. 1-6 DOI