Аннотация:Исследованы особенности удаления пленок а-С:Н и окисления Мо в проточном тлеющем разряде кислорода, а также восстановления оксида молибдена в разряде дейтерия (T = 300320 K). После удаления углерода в условиях O2-разряда на крупноблочном молибдене с преимущественной ориентацией Мо(110) формировался стационарный слой оксида МоO3 с предельной толщиной 2530 нм. Оксидные пленки были восстановлены в дейтериевой плазме с селективным коэффициентом распыления масштаба 0.01 ат. О/ион D . Использование кислородного разряда для очистки молибденовых внутренних поверхностей термоядерного реактора от углеводородных отложений потребует дополнительной последующей экспозиции рабочей камеры в дейтериевой плазме в течение 810 ч для удаления кислорода из образовавшихся оксидных слоев -МоО3 с предельным содержанием кислорода 44.5 мкг/см2.