Радиальная неоднородность параметров плазмы в индуктивном ВЧ разряде низкого давлениястатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:Работа посвящена систематическим исследованиям радиальной зависимости параметров плазмы
индуктивного ВЧ-разряда низкого давления в широком диапазоне давлений от 0.8 мторр до
1 торр. Экспериментальные результаты, полученные при рассмотренных давлениях, позволяют
проанализировать закономерности изменения параметров плазмы, как при нелокальном режиме
горения разряда, так и при переходе от нелокального к локальному режиму ввода ВЧ-мощности.
Рассмотрен разряд в гелии, неоне, аргоне и криптоне. Экспериментальные данные сопоставлены
с результатами численного моделирования индуктивного ВЧ-разряда PIC-методом.