|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Epi-replacement in CMOS technology by high dose, high energy boron implantation into Cz substratesстатья
- Авторы: Bourdelle K.K., Chen Y., Ashton R.A., Rubin L.M., Agarwal A., Morris W.
- Сборник: 2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432)
- Год издания: 2000
- Место издания: IEEE
- DOI: 10.1109/iit.2000.924151
- Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович