|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
ПРОПУСКАНИЕ СВЕТА И ТОПОГРАФИЯ ПОВЕРХНОСТИ ОПТИЧЕСКОГО КВАРЦА КУ-1 ПОСЛЕ РАСПЫЛЕНИЯ И ОЧИСТКИ ОТ ПЛЕНОК Аl В ВЧ-РАЗРЯДЕ В СМЕСЯХ Н2(D2)–Neстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
- Авторы: Городецкий А.Е., Маркин А.В., Буховец В.Л., Золотаревский В.И., Залавутдинов Р.Х., Бабинов Н.А., Дмитриев А.М.
- Журнал: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
- Номер: 10
- Год издания: 2021
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 33
- Последняя страница: 43
- Переводные версии: Light Transmission and Surface Topography of KU-1 Optical Quartz After Sputtering and Cleaning from Al Films in RF Discharge of H2(D2)–Ne Mixtures
- DOI: 10.31857/S102809602110006X
- Аннотация: В плазменных устройствах, в которых взаимодействие плазмы со стенкой и миграция материала яв-ляются значимыми, пропускание диагностических окон может уменьшаться из-за загрязнения ма-териалами обращенных к плазме элементов конструкции. Рассматривается очистка плавленогокварца КУ-1, моделирующего диагностическое окно, от пленок алюминия в высокочастотной плаз-ме, генерируемой в газах H2(D2), H2(D2)−0.23Ne и чистом Ne. Алюминий использовался в качествехимического аналога Be − основного материала первой стенки ИТЭР. Морфология обработаннойплазмой поверхности, исследованная с помощью атомно-силовой микроскопии, химический со-став, проанализированный с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, и спектрыпропускания в диапазоне 400−1000 нм показали, что плазменная очистка сопровождается слабымвосстановлением кварца до субоксидов и одновременным уменьшением шероховатости Rq от 1.3 до1.0 нм. После плазменной обработки поверхности кварца обнаружено снижение светопропусканияна 1.5−2% в диапазоне длин волн 400−750 нм. Дальнейшее распыление очищенного кварца с удале-нием слоя толщиной более 300 нм сопровождалось постепенным сглаживанием поверхности и сни-жением Rq до 1 нм, но с сохранением пониженного светопропускания. Все исследуемые газы – изо-топы водорода, неон и смесь D2(H2)–Ne подходят для удаления пленок Al с поверхности кварца привысокочастотной мощности несколько Вт/см2и температурах 20—100°C.
- Добавил в систему: Буховец Валентин Леонидович