|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Математическая модель температурных полей в процессе электронно-лучевого экспонирования при изготовлении фотошаблонов БИСстатья
- Авторы: Грачев Е.А., Кузьмин И.Ю., Ошарин О.В., Цыганков В.Ю.
- Журнал: Вопросы радиоэлектроники. Серия ЭВТ
- Номер: 5
- Год издания: 1983
- Первая страница: 55
- Последняя страница: 61
- Аннотация: Представлена математическая модель теплового процесса при обработке многослойной пластины фотошаблона электронным лучом
- Добавил в систему: Кузьмин Игорь Ярьевич