Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Physical Processes and Plasma Parameters in a Radio-Frequency Hybrid Plasma System for Thin-Film Production with Ion Assistance
статья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 13 мая 2020 г.
Авторы:
Kralkina E.
,
Alexandrov A.F.
,
Nekludova P.
,
Nikonov A.
,
Pavlov V.B.
,
Vavilin K.
, Odinokov V., Sologub V.
Сборник:
Micromachining
Глава в коллективной монографии
Год издания:
2019
Место издания:
Intech Open London
Первая страница:
1
Последняя страница:
18
DOI:
10.5772/intechopen.82870
Добавил в систему:
Зефирова Виктория Львовна