Controlling plasma composition during carbon film deposition in microwave discharges by means of optical-emission spectroscopyстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Controlling plasma composition during carbon film deposition in microwave discharges by means of optical-emission spectroscopy / V. V. Dvorkin, N. N. Dzbanovskii, P. V. Minakov et al. // Plasma Physics Reports. — 2003. — Vol. 29, no. 9. — P. 789–795. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть