The structure of thin carbon films deposited at 13.5 nm EUV irradiationстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] The structure of thin carbon films deposited at 13.5 nm euv irradiation / E. M. Malykhin, V. A. Krivchenko, D. V. Lopaev et al. // Moscow University Physics Bulletin. — 2011. — Vol. 66, no. 1. — P. 54–58. In this work, the structure and chemistry of thin nm-thick carbon films deposited on a substrate using strong 13.5 nm EUV irradiation under a strong vacuum were studied. The film structure was studied by Raman spectroscopy in comparison with the Raman spectra of well-known carbon phases: diamond, single-wall nanotubes, nano- and micro-crystalline graphite and amorphous carbon. As well, FTIR spectroscopy was used to study possible IR-active chemical bonds, primarily, hydrogen bonds. It was shown that films deposited on a surface under EUV irradiation consists of amorphous sp (2)-carbon. The mechanisms of deposition are discussed briefly. Knowledge about the structure and chemistry of such carbon films is very important for EUV lithography. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть