|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Dependence of dielectric constant of hydrocarbon bridged low-k films on porosityстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 7 марта 2019 г.
- Авторы: Palov Alexander P., Baklanov Mikhail R., Shuhua Wei
- Журнал: Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
- Том: 37
- Год издания: 2019
- Издательство: AIP Publishing
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 010601-1
- Последняя страница: 010601-4
- DOI: 10.1116/1.5082781
- Аннотация: Numerical and analytical approaches developed for calculation of dielectric constants of porous organosilicate glasses (OSG) were applied to porous hydrocarbon bridged OSG films. All calculations were based on modified Clausius-Mossotti equation and used for films with wide ranges of porosity (0.2 - 0.4). The dielectric constants were calculated in assumption of preferential localization of CH3 groups on pore walls as for OSG films and uniform distribution of ethylene and phenylene groups in silicon dioxide matrix. The authors expect the predicted values of dielectric constants to be of help for plasma processing industry.
- Добавил в систему: Палов Александр Петрович