ИСТИНА

Сформулированы теоретические принципы построения моделей тепловых процессов электронно-лучевого экспонирования (электронной литографии) промежуточных фотооригиналов (фотошаблонов) больших интегральных схем. Построены различные точные и асимптотические решения уравнений теплопроводности для стационарных и сканирующего нестационарного режима электронно-лучевого экспонирования с объёмным источником тепла. Разработаны методики и проведены сравнительные экспериментальные исследования процессов электронной литографии хром-стеклянных фотошаблонов больших интегральных схем с позитивными и негативными электронными резистами. Результаты исследований внедрены в производстве матричных СБИС.