Описание:В курсе рассматривается планарная технология производства микрочипов, физические основы процессов формирования структур на поверхности, возникающие проблемы и пути их решения. В курсе объясняются принципы процессов осаждения и травления материалов в плахмохимических реакторах, ионной имплантации и литографии. Также рассматриваются типовые объекты микроэлектроники и особенности их производства: MOSFET, логические элементы, элементы хранения информации.