Новые данные о химическом составе аморфных хромовых покрытий, получаемых электрохимическим осаждением и альтернативными физическими методамитезисы докладаТезисы
Место издания:Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) Москва
Первая страница:41
Последняя страница:41
Аннотация:Вопросы формирования качественных хромовых покрытий привлекали и продолжают привлекать внимание большого числа исследователей. Интерес к ним в значительной степени обусловлен особыми свойствами этих покрытий, которые включают высокую твердость, износостойкость, коррозионную стойкость, привлекательные декоративные характеристики и т.д. В начале 2000-х Ю.М. Полукаров привлек к этим исследованиям нашу научную группу, работающую на кафедре электрохимии МГУ имени М.В. Ломоносова [1 – 3].
На начальном этапе наших исследований было установлено, что измеряемые в сернокислых растворах в потенциостатических условиях ток – потенциал (i – E) зависимости на металлургическом хроме и аморфных хромовых осадках, получаемых из Cr(III) электролитов с добавками ряда органических веществ (щавелевая кислота и некоторые другие), резко различаются. Было показано, что на i, E-кривых на хромовых осадках отсутствовала область активного растворения, т.е., металл в стационарных условиях был в пассивном состоянии.
Выяснение причин указанных особенностей электрохимического поведения хромовых покрытий потребовало привлечения к исследованиям новых методов, в частности, одного из вариантов метода рентгеновской эмиссионной спектроскопии (valence-to-core XES), который реализован в Европейском центре синхротронных исследований (г. Гренобль, Франция). С его помощью было показано [3 – 6], что в состав аморфных хромовых покрытий, получаемых из Cr(III) электролитов с добавками ряда органических веществ, входят атомы хрома и карбидные соединения хрома, и в них отсутствует элементный углерод. Было показано, что, в отличие от электрохимических покрытий, в состав Cr-C покрытий, получаемых магнетронным напылением, входят атомы элементного углерода. В докладе обсуждаются механизмы формирования Cr-C покрытий.
Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (грант № 15-03-05927).