|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Throughput optimization of electron-beam lithography in photomask fabrication regarding acceptable accuracy of critical dimensionsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 сентября 2018 г.
- Авторы: Babin Sergey V., Kuzmin Igor Y.
- Журнал: Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
- Том: 4562
- Год издания: 2002
- Издательство: SPIE, the International Society for Optical Engineering
- Местоположение издательства: Bellingham, WA, United States
- Первая страница: 545
- Последняя страница: 551
- Добавил в систему: Кузьмин Игорь Юрьевич