|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
About mechanism of rougness development on polyimide films during anisotropic etching by fast atomic oxygenстатья
- Авторы: Matveev B.B., Nikiforov A.P., Scurat V.E., Chalykh A.E.
- Сборник: Proc.7th Int. Symp. Materials in Space Environment
- Год издания: 1997
- Место издания: Toulouse, SP-399
- Добавил в систему: Герасимов Владимир Константинович