|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Chemical deposition of smooth nanocrystalline Y2O3 films from solutions of metal-organic precursorsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 2 апреля 2015 г.
- Авторы: Martynova I.A., Tsymbarenko D.M., Kamenev A.A., Mudretsova S.N., Streletsky A.N., Vasiliev A.L., Kuzmina N.P., Kaul A.R.
- Журнал: Russian Chemical Bulletin
- Том: 62
- Номер: 6
- Год издания: 2013
- Издательство: Springer Nature
- Местоположение издательства: Switzerland
- Первая страница: 1454
- Последняя страница: 1458
- DOI: 10.1007/s11172-013-0209-8
- Аннотация: A series of (Y(AcO)(3)center dot 4H(2)O-Q-Solv) solutions (Q is monoethanolamine (MEA), diethanolamine (DEA), en, dien; Solv = MeOH, EtOH, PriOH, BuOH) was studied to choose the metal-organic precursor for surface smoothing treatment of metallic tapes by chemical deposition of nanocrystalline yttria films. Based on the results of viscosity, wetting angle, and thermal stability measurements, a solution (Y(AcO)(3)center dot 4H(2)O-dien-(PrOH)-O-i) was proposed as a new metal-organic precursor. After chemical deposition of nanocrystalline yttria films about 300 nm thick on a Hastelloy C-276 metallic tape the surface roughness was reduced by a factor of 11 (from 9.0 to 0.8 nm on a surface area of 5x5 mu m(2)).
- Добавил в систему: Цымбаренко Дмитрий Михайлович