Sputtering of W and Al in D2/O2 plasma cleaning dischargeстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 3 декабря 2017 г.

Работа с статьей


[1] Sputtering of w and al in d2/o2 plasma cleaning discharge / V. L. Bukhovets, A. E. Gorodetsky, R. K. Zalavutdinov et al. // Journal of Nuclear Materials. — 2015. — Vol. 463. — P. 255–257. Ion sputtering of W, Al, and Be (in several experiments) in a low pressure DC discharge in D-2/O-2 mixtures was studied. Ion energy was varied by electrical biasing of the samples from -100 to -600 V with respect to the plasma. At a bias of -100 V the sputtering yields peaked with an addition of 2-4 mol.% oxygen reaching (4 +/- 0.5) x 10(-3), (12 +/- 1) x 10(-3), and (20 +/- 2) x 10(-3) Me at./ion for W, Al, and Be, respectively. It is supposed that chemical nature of W, Al, and Be sputtering in D-2/O-2 plasma is caused by formation of weakly bound surface oxides and hydroxides under impinging of reactive deuterated ions (D3O+, D-3(+)). (C) 2014 Elsevier B.V. All rights reserved. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть