On the Removal of a-C:H Films Deposited onto Mo, Mo Oxidation, and MoOx Reduction in O-2 and D-2 Dischargesстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 3 декабря 2017 г.

Работа с статьей


[1] On the removal of a-c:h films deposited onto mo, mo oxidation, and moox reduction in o-2 and d-2 discharges / A. E. Gorodetsky, R. K. Zalavutdinov, V. L. Bukhovets et al. // Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. — 2015. — Vol. 9, no. 5. — P. 1085–1092. The peculiarities inherent to a-C: H film removal, Mo oxidation in a flowing glow discharge of oxygen, and molybdenum-oxide reduction in deuterium discharge are investigated at T = 300-320 K. After carbon is removed under O-2 discharge conditions, a steady-state MoO3 layer with a limiting thickness of 2530 nm is formed on large-block molybdenum with the predominant orientation Mo(110). Oxide films are reduced in deuterium plasma at a selective sputtering yield on the order of 0.01 O atom/D-2(+) ion. If the interior Mo surfaces of a thermonuclear reactor are cleaned of hydrocarbon sediments via oxygen discharge, the working chamber must be additionally exposed to deuterium plasma for 8-10 h to remove oxygen from the generated alpha-MoO3 layers with the greatest possible oxygen content of 4-4.5 mu g/cm(2). [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть