Аннотация:Проанализированы вопросы методики рентгендифрактометрического исследования особенностей атомной структуры многофазных наноструктурированных покрытий и тонких пленок конечной толщины, нанесенных на подложки различной природы с использованием соотношений, позволяющих измерять интенсивность рентгеновского рассеяния материалом тонкого покрытия, как объемным материалом. Приводятся примеры применения разработанной методики к изучению структуры ряда покрытий, полученных вакуумным ионно-плазменным напылением.