In Situ Control of CVD Synthesis of Graphene Film on Nickel Foil

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 26 февраля 2018 г.

Авторы: Rybin M.G., Kondrashov I.I., Pozharov A.S., Nguen V.C., Phan N.M., Obraztsova E.D.
Журнал: Physica Status Solidy (b)
Том: 255
Год издания: 2018
Первая страница: 1700414 -1
Последняя страница: 1700414 -5
DOI: 10.1002/pssb.201700414
Аннотация: Here we present a detailed study of the chemical vapor deposition (CVD)method used in a real-time regime for graphene film fabrication on nickelfoils. Thin films with a wide range of thicknesses (from 3 up to 53 layers andmore) have been obtained. A home-made cold-wall chamber for CVDrealization is demonstrated in this work. It is supplied with tools for in situmonitoring the temperature-dependent electrical resistance of nickel substrateto obtain a desired number of graphene layers in the sample synthesized. Anarea of 1  1cm2appeared to be covered by graphene. Raman spectroscopyand optical absorption spectroscopy are used to estimate the quality ofgraphene films fabricated and the graphene layer number.
Добавил в систему: Образцова Елена Дмитриевна

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА