|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Plasma Generation and Applicationстатья
- Авторы: Bychkov V.L., Vasiliev M.N.
- Сборник: Hakone 5. International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry. Contributed Papers. Milovy. Czech. Republic. September 2-4
- Серия: Contributed Papers
- Год издания: 1996
- Место издания: Milovy Milovy
- Первая страница: 143
- Последняя страница: 144
- Аннотация: A new type of a device including an electron beam and plasma jet for processing of different materials has been developed.
- Добавил в систему: Бычков Владимир Львович