Peculiarities of chromium electrodeposition from water − dimethylformamide solutionsстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 20 марта 2018 г.

Работа с статьей


[1] Peculiarities of chromium electrodeposition from water − dimethylformamide solutions / V. V. Kuznetsov, L. N. Pavlov, E. A. Filatova, E. G. Vinokurov // Journal of Solid State Electrochemistry. — 2018. — Vol. 22, no. 1. — P. 217–225. Abstract Electrodeposition of chromium from both CrCl2- and CrCl3-containing dimethylformamide (DMF)–water solutions is studied. It is found that the process of chromium deposition from Cr(II)-containing solutions is stable during the whole period of electrolysis, while the rate of electrodeposition from Cr(III)-containing electrolytes gradually decreases. To explain the experimental results, it has been assumed that the film consisting of chromium oxide and hydroxide species is formed in the near-cathode region during electrolysis in Cr(III)-based baths. The physical properties of this film are critical for chromium electrodeposition. It is necessary to maintain the negative potential sufficient for Cr(II)→Cr electroreduction at the electrode-film interface for the sustained chromium plating. Under such conditions, thick (up to 100 μm) Cr–C coatings of good quality can be deposited. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть