Volatile surfactant-assisted MOCVD: Application to LaAlO3 thin-film growthстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.

Работа с статьей


[1] Volatile surfactant-assisted mocvd: Application to laalo3 thin-film growth / A. A. Molodyk, I. E. Korsakov, M. A. Novojilov et al. // Advanced Materials. — 2000. — Vol. 12, no. 11. — P. 133–138. http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-0033728954&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&nlo=&nlr=&nls=&sid=AoC5uk6Bne2AKL9De4tT5rQ%3a90&sot=aut&sdt=a&sl=37&s=AU-ID%28%22Korsakov%2c+Igor+E.%22+7003420185%29&relpos=25&relpos=25&searchTerm=AU-ID(Korsakov, Igor E. 7003420185).

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть