|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Магнитооптическое исследование магнитных свойств тонкопленочных FeNi и FeNi/Ti/FeNi системтезисы доклада
- Авторы: Харламова А.М., Рожновская А.А.
- Сборник: Материалы Международного молодежного научного форума «Ломоносов-2012»
- Редакторы: Андреев А.И., Андриянов Андрей Владимирович, Антипов Евгений Александрович, Чистякова М.В.
- Тезисы
- Год издания: 2012
- Издательство: ООО "МАКС Пресс"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 319
- Последняя страница: 320
- Аннотация: FeNi пленки и FeNi/Ti/FeNi тонкопленочные системы, были получены методом магнетронного распыления.Толщина однослойных FeNi плёнок была равна 170 нм и 340 нм. В трехслойных образцах толщина магнитных FeNi слоев была равна 170 нм, а Ti слоя – 2, 5 и 15 нм. FeNi пленки толщиной 170 нм имеют плоскостную магнитную анизотропию с лёгкой осью намагничивания, совпадающей с направлением магнитного поля, приложенного в процессе напыления пленок. Найдено, что FeNi пленки толщиной 340 нм являются изотропными, проявляют вращательную анизотропию с характерной для таких образцов закритической петлей гистерезиса и полосовой доменной структурой. Значение поля насыщения увеличивается практически на порядок по сравнению с образцом толщиной 170 нм.Значение поля насыщения трехслойных FeNi/ Ti /FeNi образцов зависит от толщины титановой прослойки. Образец с толщиной Ti прослойки, равной 5 нм, характеризуется наименьшим значением поля насыщения, то есть является наиболее магнитомягким.
- Добавил в систему: Харламова Анна Михайловна