Tantalum chemical vapor deposition on substrates from various materialsстатьяИсследовательская статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 21 октября 2017 г.
Аннотация:Tantalum coatings have been produced for the first time by hydrogen-free chemical vapor deposition through reduction of tantalum pentabromide with cadmium vapor, which allowed the deposition temperature to be substantially reduced (by more than 200 K). The coatings consisted of α- and/or β-Ta, depending on the substrate material.