Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Plasma Parameters and Etching Kinetics of Si/SiO2 in Mixtures of Fluorocarbon Gases with Argon and Helium
статья
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Efremov A.M.,
Betelin V.B.
,
Kwon K.H.
Журнал:
Russian Microelectronics
Том:
53
Номер:
6
Год издания:
2024
Издательство:
Maik Nauka/Interperiodica Publishing
Местоположение издательства:
Russian Federation
Первая страница:
567
Последняя страница:
575
Добавил в систему:
Стамов Любен Иванович