Synthesis of thin colloidal crystal films and monolayer masks for metal ions implantationтезисы доклада

Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.

Работа с тезисами доклада

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст nano2014_3522.pdf 42,1 КБ 9 октября 2014 [Klimonsky]

[1] Synthesis of thin colloidal crystal films and monolayer masks for metal ions implantation / T. Bakhia, A. V. Knotko, S. O. Klimonsky, A. L. Stepanov // Abstracts of XII Int. Conf. on Nanostructured Materials. — Moscow, 2014. — P. 988–988. Method of seeded growth of narrowly dispersed SiO2 microspheres of any desirable diameter (100 < D < 500 nm) has been improved and colloidal crystal films of different thickness have been grown from synthesized microspheres. The proposed method of seeded growth has a high growth rate of the microspheres at room temperature allowing doubling of their diameter every 3 hours and the standard deviation of the diameters is less than 4% for D > 200 nm. Obtained SiO2 colloidal solutions can be directly used for growing of colloidal crystal films by vertical deposition method. Conditions for ultrathin (containing 1 or 2 close packed layers of microspheres) films growth have been established. The monolayer films have been used as microsphere masks for high dose low energy implantation of Ag+ or Cu+ ions into the glass substrates. Such process is promising for two dimensional diffraction gratings fabrication.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть