Аннотация:Методами селективной по глубине мессбауэровскои спектроскопии, металлографии, электронной микроскопии и измерений микротвердости проведен структурный анализ образца низкоуглеродистой стали, подвергнутого твердофазному борированию и последующему электронно-лучевому воздействию в течение 10 с. Полученные результаты демонстрируют, что даже такое кратковременное облучение мощным электронным потоком (доза облучения ~ 10 имп./см18) приводит к резкому изменению морфологии поверхностного боридного слоя за счет радиационно-стимулированной диффузии атомов бора в глубь массива образца.2This work is devoted to study of boride layers phase structure before and after the electron-beam irradiation during 10 seconds by means of depth-selective Mossbauer spectroscopy, electron microscopy and metallography. The obtained experimental outcomes testify that the electron-beam irradiation of the sample results in a sharp modification of the surface layer phase structure. As a result of radiation-stimulated diffusion processes the thickness of boron enriched layer increased.