|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Study of substrate orientations impact on Ultra Thin Buried Oxide (UTBOX) FDSOI High-K Metal gate technology performancesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 15 февраля 2024 г.
- Авторы: Ben Akkez Imed, Fenouillet-Beranger Claire, Cros Antoine, Perreau Pierre, Haendler Sébatien, Weber Olivier, Andrieu François, Pellissier-Tanon D., Abbate F., Richard C., Beneyton R., Gouraud P., Margain A., Borowiak C., Gourvest E., Bourdelle K.K., Nguyen B.Y., Poiroux T., Skotnicki Thomas, Faynot Olivier, Balestra Francis, Ghibaudo Gérard, Boeuf Fréderic
- Журнал: Solid-State Electronics
- Том: 90
- Год издания: 2013
- Издательство: Pergamon Press Ltd.
- Местоположение издательства: United Kingdom
- Первая страница: 143
- Последняя страница: 148
- DOI: 10.1016/j.sse.2013.02.039
- Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович