Аннотация:Проведен теоретический анализ формирования металлических микроструктур на металлическихподложках на примере локального электроосаждения серебра численным моделированием взаимо-связанных электрохимических и гомогенных химических реакций. Показано, что локализация искорость электроосаждения серебра зависят от соотношения полных концентраций аммиака, се-ребра и протонов в растворе. Определен диапазон значений относительной концентрации аммиака,обеспечивающей приемлемое сочетание локализации и скорости электроосаждения серебра. С ис-пользованием ряда упрощений проведены численные расчеты распределений концентраций участ-ников реакций и плотности тока восстановления ионов серебра при различных концентрацияхкомпонентов раствора и межэлектродных расстояниях. Показано, что степень локализации про-цесса осаждения металла зависит от распределения концентраций электроактивных катионов се-ребра и неэлектроактивного комплекса этого металла вблизи анода. Установлено, что скорость оса-ждения немонотонно зависит от расстояния между электродами, что объясняется затрудненностьюдоставки реагентов при малых межэлектродных расстояниях и увеличением доли электроактивныхионов серебра, диффундирующих в объем раствора при больших межэлектродных расстояниях.