Comparison of image characteristics projection photolithographyстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.

Работа с статьей


[1] Belokopytov G. V., Ryzhikova Y. V. Comparison of image characteristics projection photolithography // Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics. — 2008. — Vol. 72, no. 1. — P. 78–81. The characteristics of images formed by some typical photomasks have been compared using numerical simulation. The technique for estimating the critical dimensions of image elements has been considered. The dependences of the critical dimensions on the numerical aperture and coherence parameter for a light source with a circular aperture and for different types of photomasks have been analyzed. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть