|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Atomistic Simulation of Physical Vapor Deposition of Optical Thin Filmsстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus- Авторы: Grigoriev Fedor, Sulimov Vladimir
- Журнал: Nanomaterials
- Том: 13
- Год издания: 2023
- Издательство: MDPI
- Местоположение издательства: Basel, Switzerland
- Номер статьи: 1717
- Аннотация: A review of the methods and results of atomistic modeling of the deposition of thin opticalfilms and a calculation of their characteristics is presented. The simulation of various processes in avacuum chamber, including target sputtering and the formation of film layers, is considered. Methodsfor calculating the structural, mechanical, optical, and electronic properties of thin optical films andfilm-forming materials are discussed. The application of these methods to studying the dependencesof the characteristics of thin optical films on the main deposition parameters is considered. Thesimulation results are compared with experimental data.
- Добавил в систему: Григорьев Федор Васильевич