Charging and the secondary electron-electron emission on a trench surface: broadening and shift of ion energy spectrum at plasma trench etchingстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст 2010_Palov_et_al_JPhysD.pdf 361,6 КБ 10 февраля 2025 [AlexP]