|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
Effect of systematic errors in spectral photometric data on the accuracy of determination of optical parameters of dielectric thin filmsстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Tikhonravov A.V., Trubetskov M.K., Kokarev M.A., Amotchkina T.V., Duparre A., Quesnel E., Ristau D., Gunster S.
- Журнал: Applied optics
- Том: 41
- Номер: 13
- Год издания: 2002
- Издательство: Optical Society of America
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 2555
- Последняя страница: 2560
- DOI: 10.1364/AO.41.002555
- Аннотация: The determination of optical parameters of thin films from experimental data is a typical task in the field of optical-coating technology. The optical characterization of a single layer deposited on a substrate with known optical parameters is widely used for this purpose. Results of optical characterization are dependent on not only the choice of the thin-film model but also on the quality of experimental data. The theoretical results presented highlight the effect of systematic errors in measurement data on the determination of thin-film parameters. Application of these theoretical results is illustrated by the analysis of experimental data for magnesium fluoride thin films. (C) 2002 Optical Society of America.
- Добавил в систему: Тихонравов Александр Владимирович