Effect of systematic errors in spectral photometric data on the accuracy of determination of optical parameters of dielectric thin filmsстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.

Работа с статьей


[1] Effect of systematic errors in spectral photometric data on the accuracy of determination of optical parameters of dielectric thin films / A. V. Tikhonravov, M. K. Trubetskov, M. A. Kokarev et al. // Applied optics. — 2002. — Vol. 41, no. 13. — P. 2555–2560. The determination of optical parameters of thin films from experimental data is a typical task in the field of optical-coating technology. The optical characterization of a single layer deposited on a substrate with known optical parameters is widely used for this purpose. Results of optical characterization are dependent on not only the choice of the thin-film model but also on the quality of experimental data. The theoretical results presented highlight the effect of systematic errors in measurement data on the determination of thin-film parameters. Application of these theoretical results is illustrated by the analysis of experimental data for magnesium fluoride thin films. (C) 2002 Optical Society of America. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть