Optimization of growth parameters of TiO2 thin films using a slow positron beamстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 ноября 2013 г.

Работа с статьей

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст Butterling2013.pdf 806,7 КБ 20 января 2015 [smeall]

[1] Optimization of growth parameters of tio2 thin films using a slow positron beam / M. Butterling, W. Anwand, S. Cornelius et al. // Journal of Physics: Conference Series. — 2013. — Vol. 443. — P. 012073–012073. TiO2 thin films grown on fused silica were investigated using positron Doppler broadening spectroscopy at the slow-positron-beam SPONSOR at the Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf. Effects of changes in different parameters like temperature or oxygen flow during film deposition on positron sensitive parameters have been investigated and first results will be presented. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть