|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных |
||
High-Performance Large-Scale Atomistic Simulation of Thin Films Depositionстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
- Авторы: Grigoriev F.V., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V.
- Журнал: Lobachevskii Journal of Mathematics
- Том: 43
- Номер: 4
- Год издания: 2022
- Издательство: Kazanskii Gosudarstvennyi Universitet/Kazan State University
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 857
- Последняя страница: 863
- DOI: 10.1134/S1995080222070137
- Аннотация: The high-performance molecular dynamics simulation of the ion-assisted deposition of thin films is performed. The most time-consuming computational procedures are discussed. The structural parameters of the deposited films, depending on the deposition conditions, are calculated and verified using experimental data.
- Добавил в систему: Тихонравов Александр Владимирович