Ion beam etching is a technique for preparation of high-Tc superconductor microtips for field-ion microscopyстатья

Информация о цитировании статьи получена из Scopus, Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 сентября 2013 г.

Работа с статьей


[1] Ion beam etching is a technique for preparation of high-tc superconductor microtips for field-ion microscopy / E. Givargizov, A. Stepanova, A. Volobuev et al. // Surface Science. — 1990. — Vol. 231. — P. 240–246.

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть